a股“竞购”荷兰光刻机！景瑞股价触及7000万元 对产业链有什么影响？
1月19日晚，点击景瑞(300655。SZ)，领先的光刻胶股之一，你会发现人来人往，人声鼎沸，赞不绝口，比以前热闹多了。为什么会出现这种情况？由于该公司宣布已成功购买了一台ASML XT 1900Gi浸没式光刻机，该设备已于2021年1月19日成功搬进该公司。
第二天(1月20日)，受消息影响，景瑞股票开盘上涨超过13%，最高股价达到38.88元，收盘价为35.35元/股，上涨3.36%。值得注意的是，自2020年11月以来，景瑞股票的股价一直呈下跌趋势。当时最高价41.85元/股。2021年1月13日，三个月最低价格为29.13元/股，累计下跌30.3%。但从1月14日开始，股价连续四天上涨，市场似乎提前嗅到了好的味道
为什么一条动态新闻会受到如此多的关注？原因是投资者和市场对光刻机的渴望以及对“中国半导体崛起”的期待。光刻机是芯片制造的核心设备之一，用于生产芯片的光刻机目前被ASML、尼康、佳能等厂商垄断(在高端光刻机领域，基本被荷兰ASML公司垄断)。光刻机是我国半导体设备制造中最大的短板，很多有需求的企业只能花钱购买。此外，与光刻机关系密切的高端光刻胶市场几乎被美国和日本垄断。中国光刻胶市场更多的产能主要集中在PCB光刻胶等低端产品。
在当前形势下，中国半导体产业链实现光刻机国产替代具有重大战略意义，这已成为业界共识：拥有它是链中最美的“儿子”。
此外，当景瑞股份享受到最精彩的时刻时，其与南大光电的竞争关系(300346。SZ)，另一个市值两倍的光致抗蚀剂领导者，又一次因为这款光刻机的到来而吸引了眼球。《华夏时报》记者联系了两家公司，南大光电回避了对景瑞股份的任何评价，而景瑞股份的证券事务部则表示，景瑞股份长期深入光刻胶领域，“南大后来”。
不到四个月的闪电式购买
1月19日晚，景瑞股份有限公司宣布，已成功购买一台XT 1900 GI ArF浸没式光刻机，即ASML(中文翻译为Asme，以下业内俗称“ASML”)。设备于2021年1月19日运抵苏州，并成功迁入公司高端光刻胶研发实验室。下一步，公司将积极组织相关资源，尽快完成设备的安装和调试。
景瑞花了不到四个月的时间就买下了这台机器并把它搬回家。2020年9月29日，景瑞有限公司宣布，计划斥资1102.5万美元(约合7129万元人民币)购买一台ASML光刻机，用于开发集成电路制造用高端光刻胶。在披露购买光刻机的计划后，该公司股价在第一个交易日跃升至每日上限，市值飙升逾13亿元。但这一次，受产品正式平仓消息的影响，1月20日景瑞股票再次大涨，一度开盘上涨超过13%，股价最高触及38.88元/股，收盘价为35.35元/股，上涨3.36%。
据了解，用来生产芯片的光刻机是我国半导体设备制造中最大的短板。在高端光刻机领域，基本上已经被荷兰ASML公司垄断，很多有需求的企业只能想尽办法花钱购买。
此外，与光刻机关系密切的光刻胶也面临垄断局面。据业内人士称，如果将光刻机比作推动半导体制造工艺技术进步的“发动机”，那么光致抗蚀剂
景瑞是中国最早的大型光刻胶生产企业之一。据景瑞有限公司介绍，为了解决集成电路制造领域关键材料的“卡脖子”问题，加快高端ArF光刻胶的研发，建立研发平台，公司未来将采购其他相关辅助设备，尽快完成设备的安装调试并投入使用。光刻机预计上半年完成安装工程，预计3年内完成ArF光刻胶产品新工艺相关技术参数并定型，实现规模化生产。
为了满足集成电路对密度和集成度的更高要求，光刻机通过长时间缩短曝光波长，不断提高极限分辨率。目前光刻机的光源波长由紫外广谱逐渐缩短为G线(436 nm)、I线(365 nm)、KrF(248 nm)、ArF(193 nm)、F2(157 nm)、最先进的EUV(
one-p">从全球来看，目前KrF和ArF的市场份额最大。我国国产光刻胶此前仅用于低端工艺生产线中，能做到g线（436纳米）、i线 （365纳米）水平，且自给率约为10%，适用于8英寸硅片的KrF光刻胶的自给率不足5%，而适用于12英寸硅片的ArF光刻胶基本依靠进口。据悉，此次晶瑞股份购入的光刻机设备可用于研发最高分辨率达28nm的高端光刻胶。晶瑞股份表示，本次购买的 ASML光刻机设备系公司集成电路制造用高端光刻胶研发项目的必要实验设备，旨在研发出更高端的 ArF 光刻胶，若研发工作进展顺利，将有助于公司将光刻胶产品序列实现到 ArF 光刻胶的跨越，并最终实现应用于12英寸芯片制造的战略布局。
二手货标签被质疑，专家认为对产业链影响不大
为支持国内企业加大光刻胶开发力度，2000年以来，我国出台多项政策支持半导体行业发展。高端光刻胶的国产化替代正迎来重要窗口期。国联证券研究所所长马群星表示，高端ArF光刻胶目前还未有国内公司量产，国内ArF光刻胶市场需求达2.5亿美元。
晶瑞股份董事长吴天舒曾对媒体指出，实现ArF光刻胶产业化，中国的光刻胶就基本上可以满足45纳米至28纳米制程技术和工艺的要求。
有业界人士向本报记者表示，购置ASML XT 1900 Gi浸没式光刻机对晶瑞股份高端光刻胶研发有重大利好，也预示着我国在国产高端光刻胶领域的突围加速。
与此同时，在记者的采访过程中，也有观点与上述观点截然不同。某半导体产业链上市公司董秘告诉《华夏时报》记者，28nm级别的光刻机在ASML公司中并不算多先进的型号了，且此次所购买的光刻机为二手设备，市场资金基于“光刻胶国产替代化”的逻辑在炒作，买入光刻机设备并不意味着能立即带来积极效果。与此同时，记者在该公司股吧内发现，该观点也被多位投资者认同。
据记者了解，此次光刻机确实是晶瑞股份通过代理商从SK海力士手里购买的一台二手浸入式（DUV）光刻机。在该公司发布的相关公告中，《华夏时报》记者也找到关于该设备的隐忧，晶瑞股份称，该光刻机设备价格昂贵，其折旧及后续维护费用预计对公司的经营业绩存在一定影响。
针对晶瑞股份购得光刻机带给产业链的影响，《华夏时报》记者采访了财富书坊创始人周锡冰，他认为，此事件对产业链而言影响不大，原因主要有以下几点：第一，美国打击和制裁中国芯片制造，主要限制在7纳米以及以下，并未真正地管控中国14纳米以上的芯片制造和生产；第二，中国光刻胶处于中低端，想要布局高端市场尚待时日；第三，虽然中国芯片大跃进，但是真正致力于把芯片做好做精的企业并不多，多数都是投机者，只是赚快钱；第四，高端光刻胶的研发和涉足也必须循序渐进，不能大跃进，同时也还必须在商言商。
A股光刻胶公司“争购”ASML光刻机
《华夏时报》记者了解到，在A股上市公司中，除晶瑞股份外，光刻胶国产化产业链还有南大光电以及上海新阳（300236.SZ）等企业。
南大光电于2017年开始研发“193纳米光刻胶项目”，已获得国家“02 专项”（即2006年国务院在《国家中长期科学和技术发展规划纲要(2006-2020年)》中提出《极大规模集成电路制造技术及成套工艺》项目，因次序排在所列16个重大专项第二位，在业内被称为“02专项”）的相关项目立项，公司计划通过3年的建设、投产及实现销售，达到年产25吨193纳米（ArF干式和浸没式）光刻胶产品的生产规模，产品将满足集成电路行业需求标准。
上海新阳正在进行KrF、ArF光刻胶产能建设。1月5日，上海新阳公告称，自立项开发193nm ArF干法光刻胶的研发及产业化项目以来，根据项目进度，计划安排购买了ASML-1400光刻机等核心设备。但由于种种原因，该项目没能在规定时间内完成，但就具体合作细节已签署了《合作框架协议》。根据公司说法，预计光刻机进入合作方现场的时间是2021年3月底前。
投资者喜爱把晶瑞股份与南大光电作比较。就在一个月前，在国产ArF光刻胶进程上，南大光电“先声夺人”。2020年12月17日，南大光电发布公告称，其控股子公司自主研发的ArF光刻胶产品成功通过客户使用认证，可用于90纳米-14纳米甚至7纳米技术节点。据公司说法，该产品系国内通过产品验证的第一只国产ArF光刻胶，在业界人士看来，这是打破日美垄断国内ArF光刻胶市场的重大突破。
值得注意的是，根据南大光电公告显示，其控股子公司宁波南大光电材料有限公司购买安装的光刻机也是ASML的1900型号浸没式光刻机。
据南大光电介绍，ArF光刻胶的市场前景好于预期，随着国内IC行业的快速发展，自主创新和国产化步伐的加快，以及先进制程工艺的应用，将大大拉动光刻胶的用量。本次通过客户认证的产业化意义大。本次验证使用的50nm闪存技术平台，在特征尺寸上，线制程工艺可以满足45nm-90nm光刻需求，孔制程工艺可满足65nm-90nm光刻需求，该工艺平台的光刻胶在业界有代表性。
但南大光电也指出，由于ArF光刻胶存在稳定量产周期长、风险大等特点，后续是否能取得下游客户订单存在较多不确定性。截至今年上半年，光刻胶业务尚未给南大光电贡献营收。南大光电证券事务代表告诉《华夏时报》记者，ArF光刻胶产品与客户的产品销售与服务协议尚在协商之中。光刻胶业务能否给南大光电2020年的业绩做贡献，目前还不可知。
南大光电将于2021年4月22日公布年报。而晶瑞股份方面，该公司2020年年报将于2021年3月23日公布。
对于此次南大光电光刻机带来的利好，在接受《华夏时报》记者采访时，南大光电相关工作人员表示并不了解，且回避了对晶瑞股份的任何评价。
而晶瑞股份证券事务部对《华夏时报》记者表示，他们对同行不做评价，但指出晶瑞股份很早就深耕光刻胶领域了，“南大是后来的”。
根据《华夏时报》记者整理可得，目前，南大光电的市值是晶瑞股份的两倍，年涨跌幅也高于晶瑞股份，但最新收盘价二者不相伯仲。反映每股股票所拥有的资产现值的每股净资产（BPS），晶瑞股份更胜一筹，是南大光电的两倍。通常每股净资产越高越好。
多位接受采访的业界人士告诉记者，光刻机国产化以及高端光刻胶国产化都不是一蹴而就的，需要我国整个半导体行业的发展，并不是只要几个公司的努力就可以完成的。此外，他们还告诉记者，EUV(>
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